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euv光刻機原理是接近或接觸式光刻通過無限靠近,複製掩模板上的圖案;直寫式光刻是將光束聚焦為一點,通過運動工件台或鏡頭掃描實現任意圖形加工。投影式光刻因其高效率、無損傷的優點,是集成電路主流光刻技術。光刻機(MaskA...
光刻機是芯片製造的核心設備之一。在加工芯片的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫着線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小後映射到硅片上,然後使用化學方法顯影,得到刻在...
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