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plasma即等離子,其清洗原理爲:射頻電源在一定的壓力情況下,在真空腔體中產生高能量的無序等離子體,然後等離子體轟擊在被清洗產品的表面,以達到清洗目的。等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態...
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