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光刻機是芯片製造的核心設備之一。在加工芯片的過程中,光刻機透過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫着線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小後映射到硅片上,然後使用化學方法顯影,得到刻在...
7nm工藝是芯片工藝上的物理極限,半導體效應晶管體的寬度。這個數值是芯片市場上面最爲關鍵的指標,具體的數據值代表了每次不斷的提升。集成電路(英語:integratedcircuit,縮寫作IC),或稱微電路(microcircuit)、微芯片(microchip)...
以CPU爲例,如果CPU架構不同,那7nm和12nm工藝製程帶來的差別就是芯片性能的鴻溝。因爲7nm工藝製程可以讓晶體管尺寸更小,而更小的晶體管尺寸就意味着,同樣的芯片面積下,可以容納更多的晶體管,晶體管數量多了,芯片可以實現的功...
7nm工藝是芯片工藝上的物理極限,半導體效應晶管體的寬度。這個數值是芯片市場上面最爲關鍵的指標,具體的數據值代表了每次不斷的提升。集成電路(英語:integratedcircuit,縮寫作IC),或稱微電路(microcircuit)、微芯片(microchip)...
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